A recently developed self-consistent Monte-Carlo (MC) simulator of confined electron's transport in the inversion layer of nano-MOSFETs is used to analyze three nano-scale ultra-thin body (UTB) SOI MOSFETs. The effect of the subband structure and carrier degeneracy as well as the relative importance of different scattering mechanisms is discussed.

Simulation of Double-Gate nano-MOSFETs with the Multi-subband Monte Carlo Method

LUCCI, Luca;PALESTRI, Pierpaolo;ESSENI, David;SELMI, Luca
2006-01-01

Abstract

A recently developed self-consistent Monte-Carlo (MC) simulator of confined electron's transport in the inversion layer of nano-MOSFETs is used to analyze three nano-scale ultra-thin body (UTB) SOI MOSFETs. The effect of the subband structure and carrier degeneracy as well as the relative importance of different scattering mechanisms is discussed.
File in questo prodotto:
File Dimensione Formato  
2006_04_ULIS_Lucci_SimulationDoubleGate.pdf

non disponibili

Tipologia: Documento in Post-print
Licenza: Non pubblico
Dimensione 381.72 kB
Formato Adobe PDF
381.72 kB Adobe PDF   Visualizza/Apri   Richiedi una copia

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11390/882865
 Attenzione

Attenzione! I dati visualizzati non sono stati sottoposti a validazione da parte dell'ateneo

Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact