Ab-Initio Transport Study of Source-to-Channel Resistance in Metal-MoS2 Top Contacts Including Image Force Barrier Lowering in a Heterogeneous Dielectric Environment

Pilotto, Alessandro
Primo
;
Lizzit, Daniel
Secondo
;
Pala, Marco;Esseni, David
Ultimo
2025-01-01

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SISPAD_2025_4p_IRIS.pdf

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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11390/1317144
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